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臺積電逆襲10納米節點EUV工藝 [複製鏈接]

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發表於 2015-2-26 16:03:44 |顯示全部樓層
   

180049tfukiadxvnm.jpg

180049tfukiadxvnm.jpg

    英特爾作為半導體芯片產品的領頭企業,在半導體制程達到14nm節點之後,不斷向10nm以內的目標邁進。但事實上,極紫外光刻(EUV)技術設備在這一制程范圍內優勢明顯,而臺積電卻代替英特爾做瞭領頭羊。該公司和阿斯麥(ASML)聯手將EUV設備的每日產能提升到瞭1022片晶圓,對於這項新技術來說無疑是一項重大突破。

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發表於 2015-2-26 18:01:32 |顯示全部樓層
就為賺分嘛

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發表於 2015-2-26 18:01:35 |顯示全部樓層
努力,努力,再努力!!!!!!

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發表於 2015-2-26 18:04:31 |顯示全部樓層
我幫你這一帖頂起來

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發表於 2015-2-26 18:54:01 |顯示全部樓層
謝謝樓主啊!

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發表於 2015-2-26 19:14:58 |顯示全部樓層
我這樣算沙發嗎?

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發表於 2015-2-26 19:23:39 |顯示全部樓層
這貼?不回都不行啊

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發表於 2015-2-26 19:23:51 |顯示全部樓層
哈哈,看的人少,回一下

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發表於 2015-2-26 19:44:54 |顯示全部樓層
快樂看帖,認真回覆

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發表於 2015-2-26 20:17:37 |顯示全部樓層
幫你回覆一下
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